最小尺寸为纳米量级图形的印刻方法

摘要

本发明涉及一种制备最小尺寸可达纳米量级图形的印刻方法，属于微电子领域。其特征在于先制备出“印”，“印”上刻有所需的凸起或凹进的图形。接着利用得到的印压在较为柔软的材料上，印上突起的部分就在该材料上印刻出了所需的图形。如印凹进则相反。目前微电子工业中制备纳米图形主要采用Spacer技术。Spacer技术的工艺比较复杂，需要经过很多流程而且不易控制；而电子束曝光成本较高，不适合于大批量生产。而本发明提出的印刻方法成本低廉，只要制备出一个印，就能印刻出相同条件的很多样品，有很高的可重复性。

主权项

1.一种最小尺寸为纳米量级图形的印刻方法，包括在硬度较高的固体材料上制备出印，印上刻有所需的凸起或凹进的图形，再印压在硬度较低的柔软材料上，印刻出所需的图形，其特征在于具体步骤是：(a)先用丙酮除去粘附在硬度较高的固体材料上的油污，然后超声清洗5分钟，之后用去离子水冲洗；接着将所述的固体材料浸没在H2O∶H2O2∶NH4OH＝5∶1.5∶0.5的混合液中沸煮10分钟，令其自然冷却后用去离子水冲洗；再将它浸没在H2O∶HCl∶H2O2＝5∶1∶1.5的混合液中沸煮10分钟，自然冷却后用去离子水冲洗；最后用4％的HF对它进行脱水处理；(b)利用曝光加刻蚀的方法或采用Spacer技术，制备出图形线宽为1nm-10μm，高度或深度为1nm-10μm的印；所述的Spacer技术为薄膜成形技术；(c)施加一个压力，将步骤(b)制得的印压在硬度较低的柔软材料上；所述的硬度较高的固体材料为硅、二氧化硅、金刚石和玻璃中的一种；所述的硬度较低的柔软材料为光刻胶、塑料和铟中的一种。