发明名称 |
光记录介质 |
摘要 |
本发明涉及一种光记录介质,包括一个具有凹槽面的基底、一个覆盖在该基底凹槽面上的记录层、一个覆盖该记录层的反射层以及一个覆盖该反射层的保护层,其中凹槽填充值见右式(1)为360至600,其中d<SUB>sub</SUB>表示空凹槽的深度、d<SUB>groove</SUB>表示凹槽内染色层的厚度、d<SUB>land</SUB>表示光盘纹间表面区域上的染色层的厚度以及d<SUB>abs</SUB>表示凹槽内染色层表面与光盘纹间表面区域上染色层表面之间的深度差。本发明还涉及一种光记录介质,包括具有凹槽的基底和记录层,其中凹槽填充等级见右式(2)为85至100,优选为90至100,最优选为95至100,其中d<SUB>groove</SUB>表示凹槽内染色层的厚度、d<SUB>land</SUB>表示光盘纹间表面区域上的染色层的厚度。 |
申请公布号 |
CN100373486C |
申请公布日期 |
2008.03.05 |
申请号 |
CN200510108484.2 |
申请日期 |
2003.01.21 |
申请人 |
西巴特殊化学品控股有限公司 |
发明人 |
B·米尔纳;J·布赖恩约尔夫森;T·帕克斯;W·弗雷塔 |
分类号 |
G11B7/24(2006.01);G11B7/26(2006.01);C09B67/00(2006.01) |
主分类号 |
G11B7/24(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
赵苏林 |
主权项 |
1.一种光记录介质,包括一个具有凹槽面的基底、一个覆盖在该基底凹槽面上的包含酞菁染料的记录层、一个覆盖该记录层的反射层以及一个覆盖该反射层的保护层,其特征在于凹槽填充值<math><mrow><msub><mi>GF</mi><mi>V</mi></msub><mo>=</mo><mfrac><mrow><msub><mi>d</mi><mi>groove</mi></msub><mo>-</mo><msub><mi>d</mi><mi>land</mi></msub></mrow><mrow><mi>OPD</mi><mo>·</mo><mn>1</mn><mi>nm</mi></mrow></mfrac><mo>=</mo><mfrac><mrow><msub><mi>d</mi><mi>sub</mi></msub><mo>-</mo><msub><mi>d</mi><mi>abs</mi></msub></mrow><mrow><mi>OPD</mi><mo>·</mo><mn>1</mn><mi>nm</mi></mrow></mfrac></mrow></math>为360至600,其中dsub表示空凹槽的深度、dgroove表示凹槽内染色层的厚度、dland表示光盘纹间表面区域上的染色层的厚度以及dabs表示凹槽内染色层表面与光盘纹间表面区域上染色层表面之间的深度差。 |
地址 |
瑞士巴塞尔 |