发明名称 具有横向MOS晶体管和齐纳二极管的半导体器件
摘要 一种半导体器件,包括:半导体衬底(1-3);设置在衬底(1-3)中的横向MOS晶体管(LTa-LTd);设置在衬底(1-3)中的齐纳二极管(ZDa-ZDd);以及设置在衬底(1-3)中的电容器(Ca-Ce)。所述晶体管(LTa-LTd)包括漏极(D)和栅极,并且二极管(ZDa-ZDd)和电容器(Ca-Ce)串联耦合在漏极(D)和栅极之间。该器件具有最小化的尺寸和高开关速度。此外,改善了开关损耗和浪涌电压。
申请公布号 CN101136406A 申请公布日期 2008.03.05
申请号 CN200710147106.4 申请日期 2007.08.30
申请人 株式会社电装 发明人 高桥茂树;中野敬志;赤木望;樋口安史;藤井哲夫;服部佳晋;桑原诚;冈田京子
分类号 H01L27/06(2006.01);H01L23/522(2006.01) 主分类号 H01L27/06(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 王英
主权项 1.一种半导体器件,包括:半导体衬底(1-3);设置在所述衬底(1-3)中的横向MOS晶体管(LTa-LTd);设置在所述衬底(1-3)中的齐纳二极管(ZDa-ZDd);以及设置在所述衬底(1-3)中的电容器(Ca-Ce),其中所述晶体管(LTa-LTd)包括漏极(D)和栅极(G),以及所述二极管(ZDa-ZDd)和所述电容器(Ca-Ce)串联耦合在所述漏极(D)和所述栅极(G)之间。
地址 日本爱知县