发明名称 |
具有横向MOS晶体管和齐纳二极管的半导体器件 |
摘要 |
一种半导体器件,包括:半导体衬底(1-3);设置在衬底(1-3)中的横向MOS晶体管(LTa-LTd);设置在衬底(1-3)中的齐纳二极管(ZDa-ZDd);以及设置在衬底(1-3)中的电容器(Ca-Ce)。所述晶体管(LTa-LTd)包括漏极(D)和栅极,并且二极管(ZDa-ZDd)和电容器(Ca-Ce)串联耦合在漏极(D)和栅极之间。该器件具有最小化的尺寸和高开关速度。此外,改善了开关损耗和浪涌电压。 |
申请公布号 |
CN101136406A |
申请公布日期 |
2008.03.05 |
申请号 |
CN200710147106.4 |
申请日期 |
2007.08.30 |
申请人 |
株式会社电装 |
发明人 |
高桥茂树;中野敬志;赤木望;樋口安史;藤井哲夫;服部佳晋;桑原诚;冈田京子 |
分类号 |
H01L27/06(2006.01);H01L23/522(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/06(2006.01) |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
王英 |
主权项 |
1.一种半导体器件,包括:半导体衬底(1-3);设置在所述衬底(1-3)中的横向MOS晶体管(LTa-LTd);设置在所述衬底(1-3)中的齐纳二极管(ZDa-ZDd);以及设置在所述衬底(1-3)中的电容器(Ca-Ce),其中所述晶体管(LTa-LTd)包括漏极(D)和栅极(G),以及所述二极管(ZDa-ZDd)和所述电容器(Ca-Ce)串联耦合在所述漏极(D)和所述栅极(G)之间。 |
地址 |
日本爱知县 |