| 发明名称 | 等离子体镀膜装置及其镀膜方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种等离子体镀膜装置，包括：一反应室；一载座，设置在上述反应室中；一等离子体源产生装置，设置在上述反应室中，且位于上述载座上方，上述等离子体源产生装置包括一等离子体束喷射器，用以提供一沉积薄膜用的等离子体束，上述等离子体束喷射器所产生的上述等离子体束与上述载座的法线夹角 0°＜θ<SUB>1</SUB>＜90°；以及一抽气装置，设置在上述反应室中，且位于上述载座上方，上述抽气装置包括一抽气管，用以提供一抽气路径以抽取上述等离子体束形成薄膜时产生的微粒以及副产物，上述抽气管与上述载座的法线夹角0°＜θ<SUB>2</SUB>＜90°。 | ||
| 申请公布号 | CN101135048A | 申请公布日期 | 2008.03.05 |
| 申请号 | CN200610126347.6 | 申请日期 | 2006.08.30 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 张加强;吴清吉;廖新治;林春宏 |
| 分类号 | C23C16/513(2006.01);C23C16/52(2006.01) | 主分类号 | C23C16/513(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 魏晓刚;李晓舒 |
| 主权项 | 1.一种等离子体镀膜装置，包括：一反应室；一载座，设置在该反应室中；一等离子体源产生装置，设置在该反应室中，且位于该载座上方，该等离子体源产生装置包括一等离子体束喷射器，用以提供一沉积薄膜用的等离子体束，该等离子体束喷射器所产生的该等离子体束与该载座的法线夹角0°＜θ1＜90°；以及一抽气装置，设置在该反应室中，且位于该载座上方，该抽气装置包括一抽气管，用以提供一抽气路径以抽取该等离子体束形成薄膜时产生的微粒以及副产物，该抽气管与该载座的法线夹角0°＜θ2＜90°。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹县 | ||