发明名称 按摩足浴盆
摘要 本实用新型公开一种按摩足浴盆,在内表面形成按摩凸粒。具体可以在侧壁内表面或底部内表面或侧壁和底部内表面都形成按摩凸粒。使足浴同时,可由按摩凸粒对足部进行按摩,进一步改善血液循环,增强肌体免疫力,改善内分泌,消除疲劳,舒缓精神紧张,改善睡眠,增进健康,从而提升足浴效果。
申请公布号 CN201029813Y 申请公布日期 2008.03.05
申请号 CN200720006568.X 申请日期 2007.03.19
申请人 沈小明 发明人 沈小明
分类号 A47K3/022(2006.01);A61H7/00(2006.01);A61H15/00(2006.01) 主分类号 A47K3/022(2006.01)
代理机构 厦门市新华专利商标代理有限公司 代理人 李宁
主权项 1.按摩足浴盆,其特征在于:在内表面形成按摩凸粒。
地址 635108四川省大竹县石子镇段家村8组18号