| 发明名称 | 在单一基板上进行多个处理步骤的方法及其装置 | ||
| 摘要 | 一种基板遮罩装置，包括：一平板组合(assembly)，其支撑着一处理用的基板；一光罩，其具有一种孔径；一保持机构，其使光罩保持在遮罩位置中；以及一定位机构，其改变此光罩和基板的相对位置，以经由光罩中的孔径来对基板的不同区域进行曝光。此装置可另外包含一光罩载入机构，其使光罩转移至遮罩位置和非遮罩位置且在此遮罩位置和非遮罩位置之间移动。处理过程包括以不同的植入参数值来对基板的不同区域进行离子植入。在其它实施例中，可由基板前方的光罩、光闸或离子束修正器来选取此基板的待处理的区域。 | ||
| 申请公布号 | CN101138080A | 申请公布日期 | 2008.03.05 |
| 申请号 | CN200680007513.9 | 申请日期 | 2006.03.09 |
| 申请人 | 瓦里安半导体设备公司 | 发明人 | 彼得·D·纽南;安东尼·雷诺;艾伦·升;保罗·墨菲;沈圭河;查理斯·泰欧多尔赤克;史蒂芬·恩尔拉;萨缪尔·巴思凯;罗伦斯·费卡拉;理查德·J·赫尔特 |
| 分类号 | H01L21/68(2006.01);H01J37/20(2006.01);H01J37/317(2006.01) | 主分类号 | H01L21/68(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 左一平 |
| 主权项 | 1.一种基板遮罩装置，包括；一平板组合，其支撑着一处理用的基板；一光罩，其具有一种孔径；一保持机构，其使光罩保持在遮罩位置中；以及一定位机构，其改变所述光罩和基板的相对位置，以经由光罩中的孔径来对基板的不同区域进行曝光。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||