发明名称 |
扫描光学装置及使用这种装置的彩色成像设备 |
摘要 |
一种扫描光学装置,包括入射光学系统,其使得从在同一基片上包括多个发光部件的光源元件发射的多个光束,在正交于主扫描截面的一个平面中以不同角度撞击到光偏转器的同一偏转面上,并被偏转,以在多个不同感光扫描面上形成潜像,从而实现一种尺寸小且廉价的扫描光学装置及成像设备。 |
申请公布号 |
CN100373212C |
申请公布日期 |
2008.03.05 |
申请号 |
CN200610059219.4 |
申请日期 |
2006.03.15 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
加藤学 |
分类号 |
G02B26/10(2006.01);G03G15/00(2006.01) |
主分类号 |
G02B26/10(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王萍 |
主权项 |
1.一种扫描光学装置,包括:光源装置,其具有多个发光部件;光阑;光偏转器,其被配置为在同一偏转面上偏转从该多个发光部件发射的所有多个光束;入射光学系统,其被设置于该光阑与该光偏转器之间的光路中,该入射光学系统被配置为使得从该多个发光部件发射的所有多个光束通过该光阑的同一孔径,并被配置为使得所有多个光束的主光线在次扫描截面以不同角度进入该光偏转器的该同一偏转面;分离光学系统,其被配置为把在该光偏转器的该同一偏转面上被偏转的多个光束引向待被扫描的不同表面;以及成像光学系统,其被配置为使得在该同一偏转面上被偏转的该多个光束在待被扫描的不同表面上形成图像;其中入射光学系统在次扫描方向中在光阑与其共轭点之间的横向放大率βsi的绝对值满足|βsi|≤1。 |
地址 |
日本东京 |