发明名称 背照式光门型CMOS图像传感器
摘要 一种光电技术领域的背照式光门型CMOS图像传感器,其中:由光门栅极、二氧化硅和硅体而形成光门结构位于硅体背向入射光线的一侧,用于收集扩散而来的信号电子。信号电子转移栅极、信号电子转移源极区和悬浮扩散区与硅体和二氧化硅层构成一NMOS晶体管结构,位于硅体中与光门结构相同一侧。复位栅极、复位漏极区和悬浮扩散区与p型硅体和二氧化硅层也构成一NMOS晶体管结构,且与前面一个NMOS晶体管结构共用悬浮扩散区。另外两个NMOS晶体管读取悬浮扩散区的表面电势,将其放大后从信号输出端输出。接地端与硅体另外一侧相连。本发明消除了现有光门型图像传感器中的蓝光响应,提高输出图像的质量,且结构简单,方案易于实现。
申请公布号 CN101136418A 申请公布日期 2008.03.05
申请号 CN200710047404.6 申请日期 2007.10.25
申请人 上海交通大学 发明人 苏林;黄其煜
分类号 H01L27/146(2006.01) 主分类号 H01L27/146(2006.01)
代理机构 上海交达专利事务所 代理人 王锡麟;王桂忠
主权项 1.一种背照式光门型CMOS图像传感器,包括:p型硅体、二氧化硅层、光门栅极、信号电子转移栅极、复位栅极、信号输出端、线选端、电源端、复位漏极区、悬浮扩散区、信号电子转移源极区、接地端和两个NMOS晶体管,上述各部分分布于同一块p型硅体,其特征在于,光门栅极、信号电子转移栅极和复位栅极位于p型硅体背向入射光线的一侧,与p型硅体之间有二氧化硅层相隔,光门栅极、二氧化硅和p型硅体形成一光门结构,复位漏极区、悬浮扩散区和信号电子转移源极区均为p型硅体中的n+掺杂区,分布于p型硅体的与光门结构相同的一侧,信号电子转移栅极、信号电子转移源极区和悬浮扩散区与硅体和二氧化硅层一起构成一NMOS晶体管结构,复位栅极、复位漏极区和悬浮扩散区与p型硅体和二氧化硅层一起也构成一NMOS晶体管结构,且与前面一个NMOS晶体管结构共用悬浮扩散区,接地端与p型硅体另外一侧相连,另外两个NMOS晶体管读取悬浮扩散区的表面电势,将其放大后从信号输出端输出,线选端和电源端均为电压输入端。
地址 200240上海市闵行区东川路800号