| 发明名称 | 层积体及其制造方法、定影带、定影装置和成像装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种层积体及其制造方法、定影带、定影装置和成像装置。所述层积体包括金属层；和设置在所述金属层的至少一面上的树脂层或弹性层。其中，所述金属层包含导电金属层和设置在所述导电金属层的两面上的金属氧化物层。 | ||
| 申请公布号 | CN101134384A | 申请公布日期 | 2008.03.05 |
| 申请号 | CN200710103879.2 | 申请日期 | 2007.05.17 |
| 申请人 | 富士施乐株式会社 | 发明人 | 为政博史 |
| 分类号 | B32B15/04(2006.01);B32B27/06(2006.01);B32B25/04(2006.01);G03G15/20(2006.01) | 主分类号 | B32B15/04(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁香兰;谢栒 |
| 主权项 | 1.一种层积体，所述层积体包括：金属层，所述金属层包含导电金属层和设置在所述导电金属层的两面上的金属氧化物层；和设置在所述金属层的至少一面上的树脂层或弹性层。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||