发明名称 |
评价半导体涂布薄膜用溶液的方法 |
摘要 |
本发明提供一种评价半导体涂布薄膜用溶液的方法,该方法包括:当半导体涂布薄膜用溶液从平均孔径大小为0.01至0.4μm的过滤器过滤时,测量所述溶液的堵塞度,和估计由所述溶液形成的涂布薄膜的质量,其中,所述堵塞度由下式定义:堵塞度=V2/V1V1:在溶液在固定的压力和温度下过滤的情况下,滤出液在初始标准点的线速度值(每1cm<SUP>2</SUP>过滤器的过滤速度(g/cm<SUP>2</SUP>·min)),V2:在从初始标准点流出规定重量的滤出液时,滤出液的线速度值。根据本方法,可以在没有实际形成涂布薄膜的条件下计算出涂布薄膜的质量,可以由此评价涂布薄膜用溶液。 |
申请公布号 |
CN100373571C |
申请公布日期 |
2008.03.05 |
申请号 |
CN200410011883.2 |
申请日期 |
2004.09.24 |
申请人 |
住友化学工业株式会社 |
发明人 |
花元幸夫;山本敏 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01);G03F7/004(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
陈平 |
主权项 |
1.一种评价半导体涂布薄膜用溶液的方法,该方法包括:当半导体涂布薄膜用溶液从平均孔径大小为0.01至0.4μm的过滤器过滤时,测量所述溶液的堵塞度,和估计由所述溶液形成的涂布薄膜的质量,其中,所述堵塞度由下式定义:堵塞度=V2/V1V1:在溶液在固定的压力和温度下过滤的情况下,滤出液在初始标准点的通过每1cm2过滤器的过滤速度,V2:在从初始标准点流出规定重量的滤出液时,通过每1cm2过滤器的过滤速度,其中V1和V2的单位为g/(cm2·min)。 |
地址 |
日本国大阪府 |