| 发明名称 | 固定磨粒研磨磁头用的润滑剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种在对磁头进行固定磨粒研磨时使用的润滑剂组合物，其中相对于100质量份烃类溶剂，含有0.001～4.999质量份四辛基铵·双(三氟甲磺酰基)酰亚胺等有机盐、0.001～4.999质量份的碳数为8～25的脂肪酸，且该有机盐和脂肪酸的合计量为0.01～5质量份的范围。在对磁头进行的最后抛光研磨工序中，利用本发明的润滑剂组合物可以避免静电导致的破坏或可靠性下降，从而保持足够的生产率。 | ||
| 申请公布号 | CN101137740A | 申请公布日期 | 2008.03.05 |
| 申请号 | CN200680007408.5 | 申请日期 | 2006.03.07 |
| 申请人 | 株式会社德山 | 发明人 | 松永智德;绵引幸 |
| 分类号 | C10M169/04(2006.01);C10M129/06(2006.01);C09K3/14(2006.01);C10M129/16(2006.01);B24B37/00(2006.01);C10M129/40(2006.01);G11B5/31(2006.01);C10M133/04(2006.01);C10M101/02(2006.01);C10M133/16(2006.01);C10M105/02(2006.01) | 主分类号 | C10M169/04(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈昕 |
| 主权项 | 1.润滑剂组合物，其特征在于含有(1)100质量份烃溶剂，(2)0.001～4.999质量份下述式(I)表示的有机盐，<img file="A2006800074080002C1.GIF" wi="734" he="322" />上述式中，Z表示氮原子或磷原子，R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>及R<sup>4</sup>各自独立地表示碳数为4～20的烃基，但R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>及R<sup>4</sup>中碳数最多的烃基的碳数和碳数最少的烃基的碳数之比为2以下，X<sup>-</sup>表示下述式(II)所示的阴离子，A<sup>1</sup>-N<sup>-</sup>-A<sup>2</sup> (II)式中，A<sup>1</sup>、A<sup>2</sup>各自独立地表示氟酰基、氟烷氧羰基、氟烷基磺酰基、氟烷氧基磺酰基或腈基，及(3)0.001～4.999质量份的碳数为8～25的脂肪酸，并且有机盐和脂肪酸的合计含量为0.01～5质量份的范围，该润滑剂组合物可在对磁头进行固定磨粒研磨时使用。 | ||
| 地址 | 日本山口 | ||