| 发明名称 | 基片组合设备和方法 | ||
| 摘要 | 基片组合设备和方法使用由于重力而导致的下降和由于压力差而导致的吸收。基片组合设备包括：真空室，其内部压力通过对闸阀的操作来控制；上基板，用于通过真空吸收将基片安装在真空室内部的顶部上；以及下基板，用于将上表面施加了密封材料的基片固定于真空室内部的底部。所述上基板包括基片下落装置，其使基片下降。 | ||
| 申请公布号 | CN100373240C | 申请公布日期 | 2008.03.05 |
| 申请号 | CN200410091653.1 | 申请日期 | 2004.11.24 |
| 申请人 | 爱德牌工程有限公司 | 发明人 | 许光虎;李在热;李宣必;崔浚泳;李荣钟 |
| 分类号 | G02F1/1339(2006.01);G02F1/133(2006.01) | 主分类号 | G02F1/1339(2006.01) |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 余刚;李丙林 |
| 主权项 | 1.一种基片组合设备，包括：真空室，其被提供有中等真空泵和正压供应线，所述真空室的内部通过对闸阀的操作而处于中等真空状态或正压状态；上和下基板，其被提供在真空室中，上基板安装上基片并且下基板安装下基片；以及基片下落装置，用于使在上基板上安装的基片降下来。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||