| 主权项 |
1.一种彩色滤光片之制造方法,其包括以下步骤: 提供一基板及具预定图案之第一光罩,于该基板上 形成一黑矩阵层; 提供一具预定图案之第二光罩,采用离子束电子蒸 镀方法于该基板上形成第一多层膜干涉层; 提供一具预定图案之第三光罩,采用离子束电子蒸 镀方法于该基板上形成第二多层膜干涉层; 提供一具预定图案之第四光罩,采用离子束电子蒸 镀方法于该基板上形成第三多层膜干涉层。 2.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该基板系玻璃基板。 3.如申请专利范围第2项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该离子束电子蒸镀方法之真空室温度小 于该玻璃基板之转换点温度。 4.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该基板系塑胶基板。 5.如申请专利范围第4项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该离子束电子蒸镀方法之真空室温度为 35-85℃。 6.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该第一、第二、第三多层膜干涉层分别 为红、绿、蓝光带通干涉滤光层。 7.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该第一、第二、第三多层膜干涉层交错 排列并由黑色矩阵彼此间隔。 8.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该多层膜干涉层之镀膜厚度由石英震荡 方法监控。 9.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该多层膜干涉层之镀膜厚度由光学干涉 方法监控。 10.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该多层膜干涉层之镀膜厚度与理论数据 之差异不超过3%。 11.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该多层膜干涉层至少包括二种折射率不 同之材质。 12.如申请专利范围第11项所述之彩色滤光片之制 造方法,其中该多层膜干涉层之材质系二氧化矽及 五氧化二钽。 13.如申请专利范围第12项所述之彩色滤光片之制 造方法,其中二氧化矽之镀膜速率为0.5nm/s,五氧化 二钽之镀膜速率为0.7nm/s,二者之镀膜速率由石英 震荡方法监控。 14.如申请专利范围第11项所述之彩色滤光片之制 造方法,其中该多层膜干涉层之材质系二氧化钛、 二氧化矽、五氧化二铌与五氧化二钽至少二种之 任意组合。 15.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该黑矩阵层系藉由离子束电子蒸镀制程 制得。 16.如申请专利范围第15项所述之彩色滤光片之制 造方法,其中该黑矩阵层之材质系铬、钼、氧化铬 、氧化钼、氮化铬或氮化钼其中之一种。 17.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该黑矩阵层系藉由微影制程制得。 18.如申请专利范围第17项所述之彩色滤光片之制 造方法,其中该黑矩阵层之材质系黑色感光树脂材 料。 19.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该第一、第二、第三多层膜干涉层之制 成步骤系于真空室内进行。 20.如申请专利范围第19项所述之彩色滤光片之制 造方法,其中该离子束电子蒸镀方法真空室之真空 度为10-6Torr。 21.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该离子束电子蒸镀方法之电子由热电子 源产生。 22.如申请专利范围第21项所述之彩色滤光片之制 造方法,其中该离子束电子蒸镀方法之电子之能量 为5K-15KeV。 23.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片之制造 方法,其中该离子束电子蒸镀方法之离子束为氩离 子、氧离子其中一种或二者之混合。 24.如申请专利范围第23项所述之彩色滤光片之制 造方法,其中该离子束电子蒸镀方法之离子束之能 量为50-150eV。 图式简单说明: 第一图系本发明离子束电子蒸镀镀膜机之结构示 意图。 第二图系本发明彩色滤光片之制造方法蒸镀黑矩 阵层示意图。 第三图系本发明彩色滤光片之制造方法蒸镀第一 多层膜干涉层示意图。 第四图系本发明彩色滤光片之制造方法蒸镀第二 多层膜干涉层示意图 第五图系本发明彩色滤光片之制造方法蒸镀第三 区域示意图。 |
