光阻材料用聚合物及其制造方法、光阻材料、图型之形成方法

摘要

本发明系一种光阻材料用聚合物的制造方法，其特征系预先将含有链转移剂的溶液置入反应容器内，保持于聚合温度，将含有单体及聚合引发剂的溶液连续或间断的滴加，使产生自由基聚合。以本发明之制造方法所制造的聚合物对光阻溶剂之难溶解性成分较少，此聚合物作为光阻材料用基底树脂，特别是以ArF准分子雷射光为光源之微影用之化学增强正型光阻材料的基底树脂使用，可得到微影之缺陷数极少，可用于形成微细图型的光阻材料。