发明名称 光阻图案之形成方法
摘要 本发明所提供的光阻图案之形成方法,系能缩短防焊材料的曝光时间,且即便使用如同以往的防焊材料,仍可利用雷射施行曝光。在印刷电路板3上形成由覆盖膜6覆盖着表面紫外线感光性防焊膜7,并在防焊膜7上方形成阻隔紫外线的可见光感光性光阻膜8,利用可见光雷射10施行曝光,并对光阻膜8施行光阻图案11的曝光,且利用水施行显影,利用光阻膜8的硬化膜藉光阻图案11形成遮罩图案,接着,利用紫外线,并以上述遮罩图案为遮罩,且对防焊膜7施行防焊图案5的曝光,再利用弱硷显影液施行显影,便在印刷电路板3上,利用防焊膜7的硬化膜形成防焊图案5。
申请公布号 TW200811921 申请公布日期 2008.03.01
申请号 TW096128962 申请日期 2007.08.07
申请人 山荣化学股份有限公司 发明人 北村和宪;佐藤清;井上荣一
分类号 H01L21/027(2006.01);H05K3/46(2006.01) 主分类号 H01L21/027(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本