| 摘要 |
一种用于在基材(1、5)之上的薄膜(2)之中形成规律反覆图案的方法，其系利用源自一脉冲式雷射射束(3、10)的辐射来对其进行直接烧蚀，该方法的特征为，辐射射束(3、10)会通过一用于界定该图案的合宜光罩(7)，该光罩图案的影像会藉由一合宜的投影透镜(8)而被缩小成像在膜(2)的表面之上，俾使该膜处的能量强度会够高，而足以藉由烧蚀来直接移除该膜(2)，该等压印步骤的施行方式如下：(i)在一连串反覆的分离雷射烧蚀步骤中，使用一相对于该投影透镜(8)为静止且仅代表该基材(1、5)之总面积中的一小型面积的光罩(7)并且在每一道步骤处使用单一短辐射脉冲(3)来照射该光罩(7)，该辐射脉冲在基材(1、5)处的能量强度系在膜(2)的烧蚀临界值之上；以及(ii)该等一连串分离雷射烧蚀步骤会在一基材(1)表面的整个区域上反覆施行，以便提供一包括复数个像素的完整图案，其方式系藉由在与要被形成于该基材之上的图案的一轴线平行的方向(X1)之中移动该雷射射束(3、10)或基材(1、5)并且在该基材(1、5)或射束(3、10)所移动的距离等于该基材(1、5)之上的反覆图案的整数周期时启动该脉冲式雷射光罩照射光源。 |
