发明名称 |
用于ALD与CVD之批式处理平台BATCH PROCESSING PLATFORM FOR ALD AND CVD |
摘要 |
用于ALD或CVD制程的批式处理平台具有高产量和最小占据面积。在一实施例中,处理平台包含一大气传送区、至少一具缓冲室与架台的批式处理室、和一置于传送区内的传送机械装置,其中传送机械装置具有至少一含有多个基材搬运叶片的基材传送臂。平台可包括二批式处理室,二者间配有维修道,供进入传送机械装置与沉积站进行维修之用。在另一实施例中,处理平台包含至少一批式处理室、一用来传送基材于FOUP与处理匣之间的基材传送机械装置、和一含有匣搬运机械装置的匣传送区。匣搬运机械装置可为线性促动器或旋转桌。 |
申请公布号 |
TW200811926 |
申请公布日期 |
2008.03.01 |
申请号 |
TW096122950 |
申请日期 |
2007.06.25 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
威柏亚伦;伯拉罗夫亚当;尤都史凯约瑟夫;梅利尼尔;康斯坦特安德鲁;奎利斯亚佛瑞恩;莱斯麦可R RICE, MICHAEL R.;罗森盖瑞J ROSEN, GARY J.;沙许文尼K SHAH, VINAY K. |
分类号 |
H01L21/205(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/205(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财;李世章 |
主权项 |
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地址 |
美国 |