发明名称 用于ALD与CVD之批式处理平台BATCH PROCESSING PLATFORM FOR ALD AND CVD
摘要 用于ALD或CVD制程的批式处理平台具有高产量和最小占据面积。在一实施例中,处理平台包含一大气传送区、至少一具缓冲室与架台的批式处理室、和一置于传送区内的传送机械装置,其中传送机械装置具有至少一含有多个基材搬运叶片的基材传送臂。平台可包括二批式处理室,二者间配有维修道,供进入传送机械装置与沉积站进行维修之用。在另一实施例中,处理平台包含至少一批式处理室、一用来传送基材于FOUP与处理匣之间的基材传送机械装置、和一含有匣搬运机械装置的匣传送区。匣搬运机械装置可为线性促动器或旋转桌。
申请公布号 TW200811926 申请公布日期 2008.03.01
申请号 TW096122950 申请日期 2007.06.25
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 威柏亚伦;伯拉罗夫亚当;尤都史凯约瑟夫;梅利尼尔;康斯坦特安德鲁;奎利斯亚佛瑞恩;莱斯麦可R RICE, MICHAEL R.;罗森盖瑞J ROSEN, GARY J.;沙许文尼K SHAH, VINAY K.
分类号 H01L21/205(2006.01) 主分类号 H01L21/205(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财;李世章
主权项
地址 美国