METODO DE FABRICACION DE UN DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR CON RECICLADO DE UN LIQUIDO DE PROCESO.

摘要

Un método para fabricar un dispositivo semiconductor en el que un semiconductor (w) se procesa usando fluido, conteniendo entonces cada fluido un residuo de procesado, comprendiendo el método una etapa de: retirar el residuo de procesado del fluido haciendo pasar el fluido a través de un filtro (53); comprendiendo dicho filtro (53) un recubrimiento de filtro (13) formado haciendo pasar un fluido a través de dicho filtro (53) en una etapa de recubrimiento de filtro; caracterizado porque dicha etapa de recubrimiento comprende hacer pasar el fluido que contiene dicho residuo de procesado en forma de productos retirables (12A) a través de un primer filtro (10) para depositar dichos productos retirables (12A) como dicho recubrimiento de filtro (13) que forma un segundo filtro (13), con lo que al menos una parte de un residuo de procesado generado en una etapa de procesado de un semiconductor que usa un fluido constituye dicho segundo filtro (13).