发明名称 |
半导体器件测试图形库的生成方法 |
摘要 |
本发明公开了一种半导体器件图形测试库的生成方法,旨在消除由于半导体器件参数尺寸值的变化而引起的重复劳动,缩短测试图形库的设计周期。该方法包括以下步骤:使用计算机编程语言对点进行描述,以实现点在二维坐标系中的x坐标值和y坐标值的存储;使用计算机编程语言对多边形进行描述,以实现多边形由多个点确定;使用计算机编程语言对半导体基本单元的图形进行描述,以实现半导体器件由多个多边形组成;将上述描述应用到具体的半导体器件的测试图形中,构造出半导体器件的测试图形库。 |
申请公布号 |
CN101131634A |
申请公布日期 |
2008.02.27 |
申请号 |
CN200610030310.3 |
申请日期 |
2006.08.23 |
申请人 |
上海华虹NEC电子有限公司 |
发明人 |
金锋;张兴洲;常欣 |
分类号 |
G06F9/44(2006.01);G06F17/50(2006.01) |
主分类号 |
G06F9/44(2006.01) |
代理机构 |
上海浦一知识产权代理有限公司 |
代理人 |
顾继光 |
主权项 |
1.一种半导体器件图形测试库的生成方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)使用计算机编程语言对点进行描述,以实现点在二维坐标系中的x坐标值和y坐标值的存储;(2)使用计算机编程语言对多边形进行描述,以实现多边形由多个点确定;(3)使用计算机编程语言对半导体基本单元的图形进行描述,以实现半导体器件由多个多边形组成;(4)将上述描述应用到具体的半导体器件的测试图形中,包括以下步骤:a、选取某一点为原点,建立二维平面坐标系;b、确定某一半导体器件测试图形中各点的坐标;c、对半导体器件进行描述,其中至少定义有该半导体器件所包括的各多边形和特征参数;d、构造出半导体器件的测试图形库。 |
地址 |
201206上海市浦东新区川桥路1188号 |