垂直薄膜晶体管的制造方法

摘要

一种垂直薄膜晶体管的制作方法，利用挡板光掩模来制作垂直结构元件。此方法包括下列步骤。首先，形成金属层作为凸肋与栅极层。然后，将挡板光掩模设置于栅极层上。之后，直接以挡板光掩模为掩模，形成源极层、有机半导体层与漏极层，如此可以简化工艺。因为在形成有机半导体层后，没有使用到光刻蚀刻技术，所以可以避免有机半导体层受到损害，使垂直薄膜晶体管具有良好的元件特性。

主权项

1.一种垂直薄膜晶体管的制造方法，包括：提供基底，前述基底上已形成有图案化的栅极层；于前述栅极层上设置挡板光掩模，前述挡板光掩模具有开口暴露出前述栅极层一侧的部分前述基底；以前述挡板光掩模为掩模，于前述开口所暴露的前述基底上依序形成第一源极/漏极层、半导体层与第二源极/漏极层；移除前述挡板光掩模；以及于由前述第一源极/漏极层、前述半导体层与前述第二源极/漏极层构成的堆栈层与前述栅极层之间形成栅介电层。