发明名称 |
高压组件的静电放电保护装置及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种高压组件的静电放电保护装置及其制造方法,其主要是在半导体基底中,在N型井中配置有一N型扩散防护环,在P型井中配置有一P型扩散防护环,再在N型井与半导体基底之间形成一N型埋入式扩散区,以作为半导体基底防护环;这样可避免在正常的操作电压下,高压组件的静电放电保护装置发生锁存效应,进而解决先前技术在正常的操作下易发生锁存现象的技术问题。 |
申请公布号 |
CN100372117C |
申请公布日期 |
2008.02.27 |
申请号 |
CN200410017415.6 |
申请日期 |
2004.04.01 |
申请人 |
上海宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
高荣正 |
分类号 |
H01L23/60(2006.01);H01L21/02(2006.01) |
主分类号 |
H01L23/60(2006.01) |
代理机构 |
上海光华专利事务所 |
代理人 |
余明伟 |
主权项 |
1.一种高压组件的静电放电保护装置,其特征在于包括:一半导体基底,其上设有复数隔离组件;一N型井及一P型井,分别形成于所述半导体基底内且相邻;一N型漂移区域及一P型漂移区域,分别位于所述P型井及所述N型井内;一N型埋入式掺杂区,位于所述N型井内底部与所述半导体基底交接处;二多晶硅栅极结构,分别位于所述N型井与P型井上方的所述半导体基底表面;一N型源/漏极区域及一P型源/漏极区域,分别位于所述P型井与所述N型井内,使所述N型源/漏极区域各位于所述P型井上的所述多晶硅栅极结构二侧,且所述P型源/漏极区域各位于所述N型井上的所述多晶硅栅极结构二侧;一N型扩散防护环,设于所述N型井内且与所述P型源/漏极区域相邻;以及一P型扩散防护环,设于所述P型井内且与所述N型源/漏极区域相邻。 |
地址 |
201203上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号 |