| 发明名称 | 软磁性薄膜和磁记录头 | ||
| 摘要 | 具有高饱和磁通密度和优异的软磁性能的软磁性薄膜。本发明的软磁性薄膜通过电解电镀来形成。该电镀膜由组成表示为 FexCo1-x (60重量％≤x≤75重量％)的 FeCo 形成，该 FeCo 膜具有bcc晶体结构，并且该 FeCo 膜的晶体沿(110)晶面取向。 | ||
| 申请公布号 | CN100371989C | 申请公布日期 | 2008.02.27 |
| 申请号 | CN200510083079.X | 申请日期 | 2005.07.08 |
| 申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 三宅裕子;加藤雅也 |
| 分类号 | G11B5/31(2006.01);H01F10/16(2006.01) | 主分类号 | G11B5/31(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁香兰 |
| 主权项 | 1.一种用于磁记录介质的磁头，所述磁头包括：绝缘层；形成在所述绝缘层内的线圈；和位于面向所述磁记录介质的前端部分的软磁性膜，其中，所述软磁性膜通过电解电镀形成在非磁性导电层上，所述非磁性导电层由Ru、Rh、Pt、Pd、Au或其合金形成，所述软磁性膜由组成表示为FexCo1-x的FeCo形成，其中60重量％≤x≤75重量％，所述FeCo膜具有bcc晶体结构，和所述FeCo膜的晶体沿(110)晶面取向。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||