光敏电阻及其制备方法

摘要

本发明为光敏电阻技术领域提供一种新型光敏电阻及其制备方法，其主要特征是具有 Al₂O₃ 陶瓷基座和 Al₂O₃ 陶瓷基片，在 Al₂O₃ 陶瓷基片上喷涂有 CdS 和 CdSe ，形成光敏膜层，制成光敏电阻芯片；在 Al₂O₃ 陶瓷基座上设有空槽，光敏电阻芯片镶嵌在 Al₂O₃ 陶瓷基座上的空槽内，真空镀膜形成电极，用导电银浆对芯片和基座及引线进行连接。由于本发明采取了上述技术方案，通过本发明制备的光敏电阻不仅大量节约原材料 CdS 和 CdSe ，降低产品成本，而且方法简单，可操作性强，新制成的产品具有稳定性好，一致性好，环保可靠等特点，完全符合欧盟ROHS标准对产品中 Cd 含量的要求。

主权项

1.光敏电阻，其特征在于具有Al2O3陶瓷基座和Al2O3陶瓷基片，在陶瓷基座上设有两个孔，在Al2O3陶瓷基片上涂附有CdS和CdSe混合物，所述CdS和CdSe混合物是将CdS和CdSe按重量比90∶10-60∶40制定的混合溶液；高温烧结形成光敏膜层，制成光敏电阻芯片；在Al2O3陶瓷基座上设有空槽，光敏电阻芯片镶嵌在Al2O3陶瓷基座上的空槽内，真空镀膜Sn形成电极，用导电银浆对芯片和基座及引线进行连接。