发明名称 Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号 EP1148389(B1) 申请公布日期 2008.02.27
申请号 EP20010303479 申请日期 2001.04.12
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 JANSSEN, HENDRICUS WILHELMUS ALOYSIUS;RENKENS, MICHAEL JOZEFA MATHIJS;TABOR, ROB;VIJFVINKEL, JAKOB;SCHNEIDER, RONALD MAARTEN;BISSCHOPS, THEODORUS HUBERTUS JOSEPHUS
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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