发明名称 |
一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪 |
摘要 |
本发明所述的一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪,包括X射线出射窗口、安全光闸机构、X射线管、干扰光阻断结构、探测器、薄样品插槽。其中X射线出射窗口与X射线光束同轴,薄样品插槽设于X射线出射窗口与X射线管之间,干扰光阻断结构设于X射线管与探测器之间,安全光闸机构设于X射线管以及探测器与X射线出射窗口之间。本发明所述一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪的优点在于:它有效的结合了薄、厚样技术检测仪的长处,既能满足一般工矿单位对样品进行简单方便快捷的测量,又可以得到更高精度的测量结果,满足实验研究的需要。 |
申请公布号 |
CN101131369A |
申请公布日期 |
2008.02.27 |
申请号 |
CN200610111338.X |
申请日期 |
2006.08.23 |
申请人 |
北京普析通用仪器有限责任公司 |
发明人 |
田宇纮 |
分类号 |
G01N23/083(2006.01) |
主分类号 |
G01N23/083(2006.01) |
代理机构 |
北京市合德专利事务所 |
代理人 |
李本源 |
主权项 |
1.一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪,其特征在于包括X射线出射窗口、安全光闸机构、X射线管、干扰光阻断结构、探测器、薄样品插槽。其中X射线出射窗口与X射线光束同轴,薄样品插槽设于X射线出射窗口与X射线管之间,干扰光阻断结构设于X射线管与探测器之间,安全光闸机构设于X射线管以及探测器与X射线出射窗口之间。 |
地址 |
100081北京市海淀区中关村南大街甲8号威地科技大厦 |