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发明名称 HIGH-DENSITY PLASMA SOURCE FOR IONIZED METAL DEPOSITION
摘要
申请公布号 KR100806988(B1) 申请公布日期 2008.02.25
申请号 KR20000046753 申请日期 2000.08.12
申请人 发明人
分类号 C23C14/35;H01L21/203;H01J37/34;H01L21/28;H01L21/285;H05H1/46 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人
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