Vervaardigingswerkwijze voor een fotomasker voor een geïntegreerde schakeling en overeenkomstig fotomasker.

摘要

Pre-structuring of the multi-layer coating (10, 70) on the substrate surface (1), forms a reflective region (R) outside the trench (55) and a non-reflective region (NR) in the trench. An Independent claim is included for the corresponding photo-mask for an integrated circuit.