摘要 |
Es sind ein Polierpad und eine CMP-Vorrichtung vorgesehen. Das Polierpad umfasst eine Vielzahl von Mustern, die aus Gräben mit einer vorgegebenen Größe gebildet werden und eine Rille für den Fluss von Polierschlamm enthalten können. Die Vielzahl der Muster kann fischgrätförmige Gräben in konzentrischen Reihen umfassen, wobei die Reihen von fischgrätförmigen Gräben die Richtung wechseln.
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