| 发明名称 | 化学气相沉积装置 | ||
| 摘要 | 本发明揭示一种化学气相沉积装置。化学气相沉积装置包括：第一气体馈入组合件区块，其耦合到处理腔室；气体馈入管道，其形成预定工艺气体注入到所述处理腔室内所通过的通道，且其一端部分地插入并耦合到所述第一气体馈入组合件区块，且所述气体馈入管道具有至少一个区域，所述区域中在所述第一气体馈入组合件区块与所述气体馈入管道之间的间隙被密封且所述气体馈入管道耦合到所述第一气体馈入组合件区块；以及第一变形吸收部分，其形成在所述第一气体馈入组合件区块和所述气体馈入管道中的至少一者中，且允许所述气体馈入管道相对于所述第一气体馈入组合件区块而相对移动，以吸收所述气体馈入管道的变形。 | ||
| 申请公布号 | CN101126155A | 申请公布日期 | 2008.02.20 |
| 申请号 | CN200710129971.6 | 申请日期 | 2007.07.20 |
| 申请人 | SFA工程股份有限公司 | 发明人 | 李相;张祥来 |
| 分类号 | C23C16/00(2006.01) | 主分类号 | C23C16/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿宁;张华辉 |
| 主权项 | 1.一种化学气相沉积装置，其特征在于：其包括：第一气体馈入组合件区块，其耦合到处理腔室；气体馈入管道，其形成预定工艺气体注入到所述处理腔室内所通过的通道，且其一端部分地插入并耦合到所述第一气体馈入组合件区块，且所述气体馈入管道具有至少一个区域，所述区域中在所述第一气体馈入组合件区块与所述气体馈入管道之间的间隙被密封且所述气体馈入管道耦合到所述第一气体馈入组合件区块；以及第一变形吸收部分，其形成在所述第一气体馈入组合件区块和所述气体馈入管道中的至少一者中，且允许所述气体馈入管道相对于所述第一气体馈入组合件区块而相对移动，以吸收所述气体馈入管道的变形。 | ||
| 地址 | 韩国忠清南道牙山市屯浦面新项里166番地 | ||