一种基于PDMS模板和银板材料的超分辨光刻方法

摘要

一种基于PDMS模板和银板材料的超分辨光刻方法：在基底表面蒸镀与基底黏结能力较弱的金属膜层，并在其表面制作目标微纳结构；将PDMS与固化剂进行混合，并浇铸于金属膜层表面；在25－95℃的环境中固化，形成弹性膜；掀起PDMS膜，去除黏附在PDMS膜表面的金属膜层，目标微纳结构将镶嵌与PDMS膜层内部，在PDMS表面分别旋涂厚度10～100nm的保护层，形成超分辨光刻掩模；在另一基片表面涂布光刻胶，并蒸镀厚度10～100nm的金属银；将形成的超分辨光刻掩模的图形面与光刻胶表面的金属银精密贴合，并进行曝光移除超分辨光刻掩模，去除银膜，并对光刻胶进行显影，显影后即可形成需要的目标图形。本发明不仅分辨率大大提高，降低了传统光刻的复杂程度，并且利用PDMS材料的弹性，还可以利用该材料在曲面表面实现微纳结构的成形。

主权项

1.一种基于PDMS模板和银板材料的超分辨光刻方法，其特征在于步骤如下：(1)在基底表面蒸镀与基底黏结能力较弱的金属膜层，并在金属膜层表面制备需要的目标微纳结构；(2)将PDMS与固化剂进行混合，并浇铸于携带有目标微纳结构的金属膜层表面；(3)在25-95℃的环境中固化1～5小时后，使PDMS材料固化交连，形成弹性膜；(4)掀起PDMS膜，由于金属膜层与基底的黏结力很差，因此目标微纳结构及金属膜层均随PDMS膜被掀起；(5)去除黏附在PDMS膜表面的金属膜层，目标微纳结构将镶嵌与PDMS膜层内部，在PDMS表面分别旋涂厚度10～100nm的保护层和间隔层，形成超分辨光刻掩模；(6)另一块玻璃基片表面涂布光刻胶，并蒸镀厚度10～100nm的金属银；(7)将步骤(5)形成的超分辨光刻掩模的图形面与步骤(6)中光刻胶表面的金属银精密贴合，并进行曝光移除超分辨光刻掩模，去除银膜，并对光刻胶进行显影，显影后即可形成需要的目标图形。