| 发明名称 | 用于形成接触孔的掩模 | ||
| 摘要 | 本发明的实施例涉及一种用于形成接触孔的掩模，在所述的掩模中，在用于形成接触孔的光刻处理中，用于形成接触孔的掩模图案被设计为其水平轴长度大于垂直轴长度，或者其垂直轴长度大于水平轴长度。在本发明实施例中，提供了一种用于制造掩模的方法，所述掩模具有用于形成接触孔的多个图案，其中根据待形成的接触孔之间的距离可以设计不同的图案。 | ||
| 申请公布号 | CN101126892A | 申请公布日期 | 2008.02.20 |
| 申请号 | CN200710141970.3 | 申请日期 | 2007.08.10 |
| 申请人 | 东部高科股份有限公司 | 发明人 | 全永斗 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01);G03F1/14(2006.01);G03F7/00(2006.01);H01L21/31(2006.01);H01L21/768(2006.01);G11C16/00(2006.01) | 主分类号 | G03F1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郑小军 |
| 主权项 | 1.一种掩模，包括：掩模图案，其被配置为用于形成接触孔，其中在形成所述接触孔的光刻处理中，该掩模图案被设计为其水平轴长度大于垂直轴长度，或者其垂直轴长度大于水平轴长度。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||