像素结构及其制造方法

摘要

本发明公开了一种像素结构及其制造方法，其包括提供基板，并在基板上依序形成栅极以及栅绝缘层，且栅绝缘层覆盖栅极。于基板上依序形成半导体层以及导体层。提供半调式光掩模，并利用半调式光掩模在导体层上形成一层图案化光阻层。以图案化光阻层为掩模，移除部分导体层以及半导体层，以形成源极、漏极以及通道层。移除图案化光阻层。于基板上形成图案化保护层，且图案化保护层具有接触窗开口，暴露出部分漏极。于基板上形成透明像素电极，且透明像素电极经由接触窗开口与漏极电性连接。使用此制造方法可以减少微影制程的次数，从而降低制造成本。

主权项

1.一种像素结构的制造方法，包括：提供一基板，并在该基板上依序形成一栅极以及一栅绝缘层，其中该栅绝缘层覆盖该栅极；于该基板上依序形成一半导体层以及一导体层；提供一第一半调式光掩模，并利用该第一半调式光掩模在该导体层上形成一第一图案化光阻层；以该第一图案化光阻层为掩模，移除部分该导体层以及该半导体层，以形成一源极、一漏极以及一通道层；移除该第一图案化光阻层；于该基板上形成一图案化保护层，且该图案化保护层具有一接触窗开口，暴露出部分该漏极；以及于该基板上形成一透明像素电极，且该透明像素电极经由该接触窗开口与该漏极电性连接。