Process for polishing dissimilar conductive layers in a semiconductor device,申请号EP19980104878-传众专利搜索

首页产品黄页商标征信

会员服务注册登录

法人/股东/高管

发明名称	Process for polishing dissimilar conductive layers in a semiconductor device
摘要
申请公布号	EP0871214(B1)	申请公布日期	2008.02.20
申请号	EP19980104878	申请日期	1998.03.18
申请人	FREESCALE SEMICONDUCTOR, INC.	发明人	BAJAJ, RAJEEV;FARKAS, JANOS;KIM, SUNG C.;SARAVIA, JAIME
分类号	H01L21/304;H01L21/321	主分类号	H01L21/304
代理机构		代理人
主权项
地址

您可能感兴趣的专利

Automatic clutch for drilling apparatus

Procédé de fabrication d'alcools polyvalents par hydrogénation catalytique d'hydrates de carbone

Procédé et installation pour le bitumage intérieur de tuyaux et autres pièces creuses et produits en résultant

Transformateur de couplage antiparasite et ses applications

Batteuse avec lieur de paille ou presse à paille

Perfectionnements à la fabrication des câbles électriques à plusieurs conducteurs

Extracteur de roulements

Transmission casing for internal combustion engine locomotives

Magnet material

Electric discharge tube having an oxide cathode

Improvements in machines for manufacturing record cards

Improvements relating to the production of cup-shaped hollow bodies from metal billets

Aus wasserabweisendem Stoff bestehendes Kleidungsstück.

Dispositif de support mobile pour lampes ou autres objets à suspension mobile

Nouveau procédé de ventilation des rotors de turbo-alternateurs