| 发明名称 | 透明导电性层叠体及备有其的触摸屏 | ||
| 摘要 | 本发明的透明导电性层叠体的特征在于，它具有透明的膜基材、在所述透明膜基材的一面用干法工艺设置的厚度为1～30nm而相对折射率为1.6～1.9的SiO<SUB>X</SUB>膜(x大于等于1.5而小于2)、在所述SiO<SUB>X</SUB>膜上设置的厚度为10～50nm的SiO<SUB>2</SUB>膜以及在所述SiO<SUB>2</SUB>膜上设置的厚度为20～35nm的透明导电性薄膜。 | ||
| 申请公布号 | CN101127254A | 申请公布日期 | 2008.02.20 |
| 申请号 | CN200610112190.1 | 申请日期 | 2006.08.17 |
| 申请人 | 日东电工株式会社 | 发明人 | 梨木智刚;菅原英男;吉武秀敏 |
| 分类号 | H01B5/14(2006.01);H01B7/02(2006.01);B32B9/00(2006.01);G06F3/041(2006.01) | 主分类号 | H01B5/14(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 苗堃;刘继富 |
| 主权项 | 1.一种透明导电性层叠体，其特征在于，具有透明的膜基材、在所述透明膜基材的一面用干法工艺设置的厚度1～30nm而相对折射率为1.6～1.9的SiOX膜、在所述SiOX膜上设置的厚度为10～50nm的SiO2膜以及在所述SiO2膜上设置的厚度为20～35nm的透明导电性薄膜，所述SiOX膜中的x大于等于1.5而小于2。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||