加强氧化物移除速率之镓与铬离子

摘要

本发明提供一种化学-机械研磨组合物，其包含二氧化矽；足以提供0.2mM至10mM之选自由镓(III)、铬(II)及铬(III)组成之群之金属阳离子之量的化合物；及水，其中该研磨组合物具有1至6之pH值。本发明进一步提供一种用前述研磨组合物化学-机械研磨一基板之方法。