发明名称 | 立式热处理装置及位于立式热处理装置之移载机构的控制方法 | ||
摘要 | 本发明揭示一种立式热处理装置,其包含:一热处理炉;一支架,其系能够装载入该热处理炉并从其卸载,并在其中以一层状方式固持预定垂直间隔的复数个欲进行处理之物件;一移载机构,其包括能够垂直移动与旋转的一基台与能够在该基台上水平移动的一基板支撑物;以及一控制器,其系用于控制该移载机构;其中该移载机构系用以在包含复数个预定间隔的却进行处理之物件之一容器与该支架之间移载一欲进行处理之物件;该基板支撑物包括用于在水平方向上驱动该基板支撑物的一往复驱动部分与用于改变支撑欲进行处理之物件的一间距的一间距改变驱动部分;该控制器系用以监视回授至用于驱动让移载机构之一马达的位置、速度及电流之至少一资讯;以及该控制器系用以藉由比较所监视资讯与对应一正常驱动的预定资讯来判断该移载机构系异常驱动,并然后系用以停止该移载机构之驱动。 | ||
申请公布号 | TW200809976 | 申请公布日期 | 2008.02.16 |
申请号 | TW096109491 | 申请日期 | 2007.03.20 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 浅利聪;高桥喜一;小山胜彦 |
分类号 | H01L21/324(2006.01);H01L21/67(2006.01) | 主分类号 | H01L21/324(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 陈长文 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |