发明名称 新颖的奈米颗粒图案化方法
摘要 本发明系关于一种制作一金属化图案(250)之方法,其包含:将一层光阻剂(130)沈积于一基板(110)上;于该光阻剂上形成一图案:将一层金属奈米颗粒(190)沈积于该光阻剂及图案上;移除该光阻剂及该光阻剂上之覆盖金属奈米颗粒;及烧结该等残留奈米颗粒以形成一金属化图案。
申请公布号 TW200809427 申请公布日期 2008.02.16
申请号 TW096119652 申请日期 2007.06.01
申请人 柯达公司 发明人 里W 图特;泰瑞斯M 斐勒
分类号 G03F7/20(2006.01);G03F7/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国