发明名称 自动决定反应炉管之清洁制程终点的方法
摘要 一种自动决定反应炉管之清洁制程终点的方法,其适用于一低压化学气相沈积机台。本发明之方法为,将一清洁气体导入反应炉管中,使清洁气体在一特定温度下产生一化学反应。然后,连续量测反应炉管之多个位置的温度。接着,监控其中之一的上述位置的温度变化,直至温度收敛到特定温度的允许偏差值内。继之,监控全部的上述位置的温度变化,至温度收敛到特定温度的允许偏差值内。接着,进行一段时间的一过蚀刻步骤,即停止反应炉管之清洁制程。
申请公布号 TW200809933 申请公布日期 2008.02.16
申请号 TW095129751 申请日期 2006.08.14
申请人 力晶半导体股份有限公司 发明人 周明宽;杨易昌;黄书;杨文忠;贾世玮;吴政栗;陈品儒;曾德森
分类号 H01L21/30(2006.01);H01L21/66(2006.01) 主分类号 H01L21/30(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号