发明名称 | 自动决定反应炉管之清洁制程终点的方法 | ||
摘要 | 一种自动决定反应炉管之清洁制程终点的方法,其适用于一低压化学气相沈积机台。本发明之方法为,将一清洁气体导入反应炉管中,使清洁气体在一特定温度下产生一化学反应。然后,连续量测反应炉管之多个位置的温度。接着,监控其中之一的上述位置的温度变化,直至温度收敛到特定温度的允许偏差值内。继之,监控全部的上述位置的温度变化,至温度收敛到特定温度的允许偏差值内。接着,进行一段时间的一过蚀刻步骤,即停止反应炉管之清洁制程。 | ||
申请公布号 | TW200809933 | 申请公布日期 | 2008.02.16 |
申请号 | TW095129751 | 申请日期 | 2006.08.14 |
申请人 | 力晶半导体股份有限公司 | 发明人 | 周明宽;杨易昌;黄书;杨文忠;贾世玮;吴政栗;陈品儒;曾德森 |
分类号 | H01L21/30(2006.01);H01L21/66(2006.01) | 主分类号 | H01L21/30(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号 |