基板处理系统及基板运送方法

摘要

本发明系提供一种即使在以高生产量进行光微影制程之各项处理的情形，仍然可获得高信赖度的基板处理系统及基板运送方法。本发之基板处理系统100包含：主运送线20，于系统整体进行晶圆W的运送；及副运送线30，于光微影处理部1a内进行晶圆W的运送。其中，于光微影处理部1a中，光阻涂布处理装置2与显影处理装置5二者分开配置；且第１曝光处理装置3a与第IPEB处理装置4a、第２曝光处理装置3b与第2PEB处理装置4b分别接邻配置。