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发明名称
微影图案化的方法及其应用
摘要
一种微影图案化的方法,包括:于基材上形成第一材质层;于第一材质层上形成具有至少一开口的第一图案化光阻层;于第一图案化光阻层和第一材质层上方形成第二材质层;于第二材质层上形成具有至少一开口的第二图案化光阻层;以及蚀刻第一材质层和第二材质层未被第一图案化光阻层和第二图案化光阻层所覆盖的部份。
申请公布号
TW200809921
申请公布日期
2008.02.16
申请号
TW096122946
申请日期
2007.06.25
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
张庆裕
分类号
H01L21/027(2006.01)
主分类号
H01L21/027(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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