发明名称 薄膜状黏着剂、黏着薄片及使用其之半导体装置
摘要 本发明之目的系提供,工序(process)特性及耐回流焊接性可同时并存之薄膜状黏着剂。本发明之薄膜状黏着剂,因系使半导体元件黏着于被黏着物所使用之薄膜状黏着剂中,具备,含有选自聚胺甲酸乙酯醯亚胺树脂,聚胺甲酸乙酯醯胺醯亚胺树脂,及聚胺甲酸乙酯醯亚胺-聚胺甲酸乙酯醯胺醯亚胺树脂之至少1种之树脂的黏着剂层。
申请公布号 TW200809985 申请公布日期 2008.02.16
申请号 TW095128708 申请日期 2006.08.04
申请人 日立化成工业股份有限公司 发明人 增子崇;杉浦实;加藤木茂树;汤佐正己
分类号 H01L21/50(2006.01) 主分类号 H01L21/50(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本