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发明名称
薄膜状黏着剂、黏着薄片及使用其之半导体装置
摘要
本发明之目的系提供,工序(process)特性及耐回流焊接性可同时并存之薄膜状黏着剂。本发明之薄膜状黏着剂,因系使半导体元件黏着于被黏着物所使用之薄膜状黏着剂中,具备,含有选自聚胺甲酸乙酯醯亚胺树脂,聚胺甲酸乙酯醯胺醯亚胺树脂,及聚胺甲酸乙酯醯亚胺-聚胺甲酸乙酯醯胺醯亚胺树脂之至少1种之树脂的黏着剂层。
申请公布号
TW200809985
申请公布日期
2008.02.16
申请号
TW095128708
申请日期
2006.08.04
申请人
日立化成工业股份有限公司
发明人
增子崇;杉浦实;加藤木茂树;汤佐正己
分类号
H01L21/50(2006.01)
主分类号
H01L21/50(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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