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发明名称
Verfahren und System zum Erzeugen von im wesentlichen einheitlichen Fleckenmustern
摘要
申请公布号
DE112005002989(T5)
申请公布日期
2008.02.14
申请号
DE200511002989T
申请日期
2005.11.18
申请人
AVAGO TECHNOLOGIES ECBU IP (SINGAPORE) PTE. LTD.
发明人
GROT, ANNETTE C.;HUNTER, SUSAN
分类号
G03H1/04
主分类号
G03H1/04
代理机构
代理人
主权项
地址
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