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Die Erfindung betrifft ein Infrarotstrahlung reflektierendes Schichtsystem auf einem transparenten Substrat sowie ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Schichtsystems. Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe, ein Schichtsystem und ein Verfahren zu seiner Herstellung anzugeben, das bei anspruchsvollen klimatischen Bedingungen einer Wärmebehandlung des Substrats und/oder undefinierten Zuständen bei dem Glassubstrat eine ausreichende Qualität, insbesondere eine einstellbare Transmission von ca. 10 bis 80% im sichtbaren Bereich, sowie eine niedrige Emissivität gewährleistet und gleichzeitig eine weitgehende Stabilität des Farborts des Schichtsystems ermöglicht, wird durch ein temperbares, Infrarot-reflektierendes und im Bereich sichtbaren Lichts gezielt einstellbar absorbierendes Schichtsystem zur Beschichtung von dielektrischen Substraten (S0) gelöst, das erfindungsgemäß auf dem Substrat (S0) in dieser Reihenfolge eine transparente hochbrechende dielektrische Schicht (S2), eine substratseitige Absorber- bzw. Blockerschicht (S3), eine funktionelle metallische Reflexionsschicht (S4), eine obere Absorber- bzw. Blockerschicht (S5) und eine transparente hochbrechende dielektrische Schicht (S6) aufweist. Das erfindungsgemäße Schichtsystem ermöglicht die Kombination der Eigenschaften eines temperbaren IR-reflektierenden Schichtsystems (Low-E) auf Glassubstraten mit denen eines temperbaren Solarcontrol-Systems bei einstellbarer Transmission von ca. 10% bis ca. 80% im ...
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