发明名称 曝光装置
摘要 本发明提供一种曝光装置,以通过有效地除去光掩模(M)和台板(5)上的粘附性灰尘而实现成品率高的曝光。第一清洁头(1)安装在输入手(3)的曝光部(20)侧,在输入手(3)进行输入动作时,刮刀(11)在预定位置伸出并接触台板(5)的上表面,随着输入手(3)的移动而在台板(5)上移动的同时除去灰尘。第二清洁头(2)安装在输出手(4)的曝光部(20)侧,在输出手(4)向曝光部(20)进行移动和/或输出动作期间进行光掩模(M)的除尘。
申请公布号 CN101122750A 申请公布日期 2008.02.13
申请号 CN200710140259.6 申请日期 2007.08.07
申请人 株式会社阿迪泰克工程 发明人 渡辺义光
分类号 G03F7/20(2006.01);H05K3/06(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 代理人 党晓林
主权项 1.一种曝光装置,该曝光装置具备:装载待曝光印刷配线基板的台板;进行将该印刷配线基板装载于台板上的基板输入的基板输入装置;将该印刷配线基板从台板输出的基板输出装置;以及描绘待曝光图案的光掩模,其特征在于,该曝光装置具备:第一刮刀装置,其与上述基板输入装置联动地移动,对上述台板进行除尘,和第二刮刀装置,其与上述基板输出装置联动地移动,对上述光掩模进行除尘。
地址 日本东京