| 发明名称 |
Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1530090(B1) |
申请公布日期 |
2008.02.13 |
| 申请号 |
EP20040078028 |
申请日期 |
2004.11.03 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
TEGENBOSCH, HENRICUS GERARDUS |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68;H02K41/02;H02K41/03 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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