发明名称 对正装置及曝光装置
摘要 本发明的课题在于提供一种避免藉由对正而产生的基板的变形与破损的对正装置以及使用该对正装置的曝光装置。本发明的解决手段为:本发明的对正装置包括:一台座(2、3),其保持二维平面的方形基板(W),以正交于二维平面的轴为中心旋转,且于该二维平面内的第一方向上移动;一第一摄影装置(4a、4b),其对配置于方形基板的一边的边缘的彼此分离的位置上的二个部位进行摄影,并输出二个部位的边缘影像;一第二摄影装置(4c),其对与一边相交的另一边的边缘的一个部位进行摄影,并输出一个部位的另一边缘影像;一影像处理电路(100),其对边缘影像及另一边缘影像进行影像处理;以及一控制部(20),其根据影像处理装置的输出而控制台座。
申请公布号 CN101122752A 申请公布日期 2008.02.13
申请号 CN200710092202.3 申请日期 2007.03.30
申请人 株式会社ORC制作所 发明人 佐藤博明;池田泰人;森昌人
分类号 G03F9/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);G02F1/1333(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F9/00(2006.01)
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 代理人 黄纶伟
主权项 1.一对正装置,其特征在于,该对正装置包括:一台座,其保持二维平面的方形基板,以正交于二维平面的轴为中心旋转,且于该二维平面内的第一方向上移动;一第一摄影装置,其对配置于上述方形基板的一边的边缘的彼此分离的位置上的二个部位进行摄影,并输出二个部位的边缘影像;一第二摄影装置,其对与上述一边相交的另一边的边缘的一个部位进行摄影,并输出一个部位的另一边缘影像;一影像处理电路,其对上述边缘影像及上述另一边缘影像进行影像处理;以及一控制部,其根据上述影像处理装置的输出而控制上述台座。
地址 日本东京
您可能感兴趣的专利