| 发明名称 | 一种用于化学气相沉淀装置的电子吸着盘 | ||
| 摘要 | 本发明有关一种用于化学气相沉淀装置的电子吸着盘，其上具有外圈冷却氦气喷气孔及内圈冷却氦气喷气孔，在上述电子吸着盘的背面具有多个偏压加载点，且上述多个偏压加载点为环状线圈。由于具有多个偏压加载线圈，向外扩大面积，所以通过偏压的分布均匀性改善硅片与电子吸着盘表面的接触效果，从而最终减小硅片周圈与中心部分的温度差。 | ||
| 申请公布号 | CN100368591C | 申请公布日期 | 2008.02.13 |
| 申请号 | CN200410084375.7 | 申请日期 | 2004.11.19 |
| 申请人 | 上海华虹NEC电子有限公司 | 发明人 | 李菲;倪立华 |
| 分类号 | C23C16/458(2006.01) | 主分类号 | C23C16/458(2006.01) |
| 代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘清富 |
| 主权项 | 1.一种用于化学气相沉淀装置的电子吸着盘，其上具有外圈冷却氦气喷气孔及内圈冷却氦气喷气孔，其特征在于：在上述电子吸着盘的背面具有多个偏压加载点。 | ||
| 地址 | 201206上海市浦东川桥路1188号 | ||