| 发明名称 | 在扫描离子植入期间改进的剂量均匀度 | ||
| 摘要 | 本发明是关于以一序列植入程序将离子直接植入于工件中，使得在工件上产生一个或更多扫描图案，该图案相似于工件大小、形状以及其他尺寸方面。更进一步，扫描图案为相互叠插的并且可以连续产生，直到整个工件均匀地以离子植入为止。 | ||
| 申请公布号 | CN101124649A | 申请公布日期 | 2008.02.13 |
| 申请号 | CN200580043499.3 | 申请日期 | 2005.11.08 |
| 申请人 | 艾克塞利斯技术公司 | 发明人 | M·葛瑞夫;A·芮 |
| 分类号 | H01J37/317(2006.01);H01J37/20(2006.01);H01J37/302(2006.01);H01L21/687(2006.01);H01J37/304(2006.01) | 主分类号 | H01J37/317(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王岳;王小衡 |
| 主权项 | 1.一种将离子植入工件的方法，包括：移动该工件经过基本上固定的离子束，以在其上产生接近该工件形状的第一扫描图案；以及移动工件经过该离子束，以在其上产生一个或更多接近该工件形状的后续的扫描图案，该后续的扫描图案与该第一扫描图案叠插。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||