| 发明名称 | 具有盖板的等离子处理室及其气体分配板组件 | ||
| 摘要 | 本申请提供用于大面积基板的处理室中的气体分配用的气体分配板实施例。该等实施例描述一用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件，包含：一扩散板，具有：一上游侧、一面向处理区的下游侧、及数个气体通道，形成穿过该扩散板；及一档板，放置于处理室的盖板与扩散板之间，具有数个孔，由档板上表面延伸至下表面，其中该等孔具有至少两侧。档板的小针孔是用以允许足够的气体混合物通过，而档板的大孔则用以改良整个基板的处理均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN201021459Y | 申请公布日期 | 2008.02.13 |
| 申请号 | CN200620112597.X | 申请日期 | 2006.04.04 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | 王群华;侯力;S·D·亚达夫;古田学;大森研治;崔寿永;J·怀特 |
| 分类号 | C23C16/513(2006.01);C23C16/448(2006.01) | 主分类号 | C23C16/513(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 张政权 |
| 主权项 | 1.一种用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件，其特征在于，至少包含：一扩散板，具有一上游侧、一面向处理区的下游侧、及数个气体通道，形成穿过该扩散板；及一档板，放置于该处理室的盖板与扩散板之间，具有由档板的上表面延伸至下表面的数个孔，其中该数个孔具有至少两种尺寸。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||