| 发明名称 |
Fabrication process for semiconductor device using a dummy gate |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1211716(B1) |
申请公布日期 |
2008.02.13 |
| 申请号 |
EP20010127063 |
申请日期 |
2001.11.14 |
| 申请人 |
SHARP KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
TOKUSHIGE, NOBUAKI;KANEKO, SEIJI |
| 分类号 |
H01L21/60;H01L21/768;H01L29/78;H01L21/28;H01L21/336 |
主分类号 |
H01L21/60 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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